エクアでは、各種ガラス基板やシリコンウエハ上に様々な金属膜による多層パターンを形成した製品をご提供しております。
独自の図形データ生成技術、高精度マスク描画装置や半導体用ステッパーの利用、フォトエッチング、リフトオフ、メッキ、サンドブラストなど最先端の加工技術を利用して、最適のプロセスを ご提案いたします。
また、フォトマスク製造装置を用いて基板上に直接パターンニングすることにより超高精度な加工を可能にしております。
クロム、アルミ、Ti、ITOなど多様な金属薄膜を用いた電子回路をガラス、セラミックス、シリコン基板などの上に形成いたします。
基材
- ガラス
ソーダライムガラス
合成石英ガラス
無アルカリガラス
- ウエハ
シリコンウエハ
化合物半導体
- SIC (シリコンカーバイド)
- GaN (ガリウムナイトライド)
- プリント基板
ガラスウエハ 一覧
ガラスウエハ仕様 | |||||
ウエハサイズ | 4inch | 5inch | 6inch | 8inch | 12inch |
ウエハサイズ | 100mm | 125mm | 150mm | 200mm | 300mm |
厚み | ご指定可能 | ||||
オリフラmm/ノッチ | 32.5mm | 42.5mm | 57.5mm | ノッチ | ノッチ |
研磨状態 | 光学研磨 | ||||
その他 | 2in～ ご指定のサイズ形状で作成可能 (四角形状など) | ||||
成膜 | 各種ターゲット成膜 | ||||
加工 | 成膜パターニング、ガラスエッチング | ||||
ベアウエハ 一覧
Siウエハ仕様 | |||||
ウエハサイズ | 4inch | 5inch | 6inch | 8inch | 12inch |
ウエハサイズ | 100mm | 125mm | 150mm | 200mm | 300mm |
厚み | 525um | 625um | 625um | 725um | 775um |
オリフラmm/ノッチ | 32.5mm | 42.5mm | 57.5mm | ノッチ | ノッチ |
P/N タイプ | P型/N型 | ||||
結晶方位 | (100) / (110) / (111) | ||||
研磨状態 | 片面ミラー | 両面ミラー | |||
成膜
- 熱酸化膜
- スパッタリング
- LP-CVD
- PE-CVD
- ALD
成膜ウエハ 一覧
成膜Siウエハ仕様 | |||||
ウエハサイズ | 4inch | 5inch | 6inch | 8inch | 12inch |
ウエハサイズ | 100mm | 125mm | 150mm | 200mm | 300mm |
厚み | 525um | 625um | 625um | 725um | 775um |
オリフラmm /ノッチ | 32.5mm | 42.5mm | 57.5mm | ノッチ | ノッチ |
P/N タイプ | P型/N型 | ||||
結晶方位 | (100) / (110) / (111) | ||||
研磨状態 | 片面ミラー | 両面ミラー | |||
成膜方法 | 熱酸化膜 / スパッタリング / CVD / PE-CVD / LP-CVD | ||||
成膜ターゲット | 絶縁層 / 導電膜 / 金属膜 | ||||
膜厚 | 100 ～ 10000Å | ||||
| 絶縁膜 | SiO2二酸化ケイ素 、SiNシリコンナイトライド 、P-TEOSテトラエトキシシラン 、SiONシリコン窒化膜 、SiOC 炭素添加シリコン酸化膜 、HfO2酸化ハフニウム | ||||
導電膜 | Alアルミ 、Al-Cuアルミカッパー 、Au 金、Pt プラチナ、Cu銅 、Crクロム 、Ti チタン、Taタンタル 、Wタングステン 、Pdパラジウム 、TiNスズ 、TaN窒化タンタル 、AlN窒化アルミニウム 、TiC炭化チタン 、WC 炭化タングステン、ITO酸化インジウムスズ 、SnO2酸化スズ 、ZnO酸化亜鉛 、Ruルテニウム、Ag-Pd銀パラジウム 、Coコバルト | ||||
パターニング
パターニングの内容・仕様
- パターニング加工 フォトリソグラフィ
- シリコンウエハ 12インチサイズまで対応
- 等倍フォトリソから ステッパーまで対応
